เป้าหมายโรตารี่โลหะ
รายละเอียดสินค้า
เป้าหมายโรตารีโลหะ
ใช้สนามแม่เหล็กและสนามไฟฟ้าตั้งฉากระหว่างเป้าหมายการสปัตเตอร์ (แคโทด) และขั้วบวกและเติมก๊าซเฉื่อยที่จำเป็น (โดยปกติคือก๊าซ Ar) ในห้องสุญญากาศสูงภายใต้การกระทำของสนามไฟฟ้า ก๊าซ Ar จะแตกตัวเป็นไอออนบวกและอิเล็กตรอนมีการใช้ไฟฟ้าแรงสูงเชิงลบจำนวนหนึ่งกับเป้าหมาย อิเล็กตรอนที่ปล่อยออกมาจากเป้าหมายจะได้รับผลกระทบจากสนามแม่เหล็ก ความน่าจะเป็นไอออไนเซชันของก๊าซทำงานเพิ่มขึ้น พลาสมาที่มีความหนาแน่นสูงจะเกิดขึ้นใกล้กับแคโทด และไอออนของอาร์จะได้รับผลกระทบ โดยกองกำลัง Lorentzจากนั้นเร่งความเร็วเพื่อบินไปยังพื้นผิวเป้าหมาย และระดมยิงพื้นผิวเป้าหมายด้วยความเร็วสูง เพื่อให้อะตอมที่สปัตเตอร์บนเป้าหมายเป็นไปตามหลักการของการแปลงโมเมนตัม บินจากพื้นผิวเป้าหมายไปยังพื้นผิว และสะสมฟิล์มพลังงานจลน์สูงไว้
เพื่อปรับปรุงอัตราการใช้ประโยชน์ของวัสดุเป้าหมายให้ดียิ่งขึ้น จึงมีการออกแบบแคโทดแบบหมุนที่มีประสิทธิภาพการใช้งานสูงขึ้น และใช้วัสดุเป้าหมายแบบท่อสำหรับการเคลือบแบบสปัตเตอริงการปรับปรุงอุปกรณ์สปัตเตอริงจำเป็นต้องเปลี่ยนเป้าหมายจากรูปทรงแบนเป็นรูปทรงท่อ และอัตราการใช้ประโยชน์ของเป้าหมายการหมุนท่ออาจสูงถึง 70% ซึ่งช่วยแก้ปัญหาการใช้งานเป้าหมายแบนต่ำได้อย่างมาก
| ชื่อสินค้า | เป้าหมายโรตารี่โลหะ |
| วัสดุ | W, Mo, Ta, Ni, Ti, Zr, Cr, TiAl |
| ขนาดขายดี | ID-133/ OD-157x3191มม ID-133/OD-157 X 3855มม ID-160/OD-180x1800mm ยังสามารถดำเนินการตามความต้องการเฉพาะของลูกค้า |
| ขั้นต่ำ | 3 ชิ้น |
| บรรจุุภัณฑ์ | กล่องไม้ชั้น |
หมายเหตุ: เราผลิตเป้าหมายโลหะต่างๆ เป็นหลัก โปรดปรึกษาเราสำหรับรายละเอียด
แอปพลิเคชัน
การเคลือบสปัตเตอริงเป็นวิธีการเคลือบไอทางกายภาพรูปแบบใหม่เมื่อเทียบกับวิธีการเคลือบผิวแบบระเหย มีข้อดีที่ชัดเจน.
ในหลายด้านมีการใช้เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะในหลายสาขาแอปพลิเคชั่นหลักของเป้าหมายการหมุน
■พลังงานแสงอาทิตย์
■กระจกสถาปัตยกรรม
■กระจกรถยนต์
■สารกึ่งตัวนำ
■โทรทัศน์จอแบน เป็นต้น
ข้อมูลการสั่งซื้อ
การสอบถามและสั่งซื้อควรระบุข้อมูลต่อไปนี้:
☑ข้อมูลจำเพาะของเป้าหมาย ID×OD×L (มม.)
☑ปริมาณที่ต้องการ
☑โปรดติดต่อเราสำหรับความต้องการพิเศษเพิ่มเติม
